1. Електронний архів КНУТД
  2. Загальноуніверситетські колекції
  3. Періодичні видання КНУТД
  4. Вісник КНУТД
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/4308
Название: Вплив морфології поверхні алюмінієвого струмовідводу на адгезію електродного матеріалу і опір електрохімічного конденсатора
Авторы: Черниш, Оксана Василівна
Хоменко, В. Г.
Барсуков, В. З.
Ключевые слова: electrochemical capacitor
electrode
adhesion
current collector
internal resistance
электрохимический конденсатор
электрод
адгезия
коллектор тока
внутреннее сопротивление
електрохімічний конденсатор
електрод
адгезія
колектор струму
внутрішній опір
Дата публикации: 2016
Библиографическое описание: Черниш О. В. Вплив морфології поверхні алюмінієвого струмовідводу на адгезію електродного матеріалу і опір електрохімічного конденсатора [Текст] / О. В. Черниш, В. Г. Хоменко, В. З. Барсуков // Вісник Київського національного університету технологій та дизайну. Технічні науки. - 2016. - № 6 (104). - C. 188-194.
Source: Вісник Київського національного університету технологій та дизайну. Технічні науки
Краткий осмотр (реферат): The results allow us to improve the electrical characteristics of electrochemical capacitors and the technology of its production.
Полученные результаты позволяют существенно улучшить электрические характеристики электрохимических конденсаторов и улучшить экологичность их изготовления.
Отримані результати дозволяють суттєво покращити електричні характеристики електрохімічних конденсаторів та покращити екологічність їх виготовлення.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/4308
ISSN: 1813-6796
Располагается в коллекциях:Наукові публікації (статті)
Вісник КНУТД
Кафедра хімічних технологій та ресурсозбереження (ХТР)

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
V104_P188-194.pdf471,39 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.